Plasma Etching: Fundamentals and Applications

Autor: 
Jazyk: 
english
Vazba: 
Pevná vazba
Počet stran: 
356
This book focuses on the remarkable recent advances in understanding low pressure radio frequency glow discharges. It explains the basic analytical theory, plasma physics, and plasma diagnostics, befo ...Celý popis
6 975,00 Kč

Podrobné informace

Více informací
ISBN9780198562870
AutorSugawara Minoru
VydavatelOxford Univ Pr
Jazykenglish
VazbaPevná vazba
Rok vydání1998
Počet stran356

Popis knihy

This book focuses on the remarkable recent advances in understanding low pressure radio frequency glow discharges. It explains the basic analytical theory, plasma physics, and plasma diagnostics, before proceeding to the details of the etching process.

Proč nakupovat na Enbooku?

  1. velký výběr

    Velký výběr

    Nabízíme miliony knih v angličtině. Od beletrie až po ty nejodborněji odborné.

  2. poštovné zdarma

    Poštovné zdarma

    Poštovné už od 54 Kč a při objednávce nad 1499 Kč doprava na pobočku Zásilkovny zdarma.

  3. skvělé ceny

    Skvělé ceny

    Ceny knih se snažíme držet při zemi a vždy pod cenou doporučovanou vydavatelem, aby si je mohl koupit opravdu každý.

  4. online podpora

    Online podpora

    Můžete využít online chatu, emailu nebo nám zatelefonovat.

  5. osobní přístup

    Osobní přístup

    Nejdůležitější je pro nás Vaše spokojenost. Prodáváme knihy, protože je milujeme. Nejsme žádní nadnárodní giganti, ale poctivá česká firma.